現在、当社では8inchNタイプのSiCウェーハの小ロット供給を継続して行っております。サンプルが必要な場合は、お気軽にお問い合わせください。出荷可能なサンプルウェーハがいくつかあります。
半導体材料の分野では、同社は大型SiC結晶の研究開発で大きな進歩を遂げた。同社は、直径を何回も拡大した後、独自の種結晶を使用することにより、8インチのN型SiC結晶の成長に成功しました。これにより、成長プロセスにおける不均一な温度場、結晶割れ、気相原料分布などの困難な問題が解決されました。 8 インチ SIC 結晶、大型 SIC 結晶の成長と自律的で制御可能な処理技術を加速します。 SiC単結晶基板業界における同社の中核的な競争力を大幅に強化する。同時に、同社は大型炭化ケイ素基板製造実験ラインの技術とプロセスの蓄積を積極的に推進し、上流と下流の分野での技術交流と産業協力を強化し、顧客と協力して製品の性能を継続的に反復し、共同で開発します。炭化ケイ素材料の産業応用のペースを促進します。
| 8インチN型SiC DSP仕様 | |||||
| 番号 | アイテム | ユニット | 生産 | 研究 | ダミー |
| 1.パラメータ | |||||
| 1.1 | ポリタイプ | -- | 4H | 4H | 4H |
| 1.2 | 面配向 | ° | <11-20>4±0.5 | <11-20>4±0.5 | <11-20>4±0.5 |
| 2. 電気的パラメータ | |||||
| 2.1 | ドーパント | -- | n型窒素 | n型窒素 | n型窒素 |
| 2.2 | 抵抗率 | オーム・センチメートル | 0.015～0.025 | 0.01～0.03 | NA |
| 3. 機械的パラメータ | |||||
| 3.1 | 直径 | mm | 200±0.2 | 200±0.2 | 200±0.2 |
| 3.2 | 厚さ | μm | 500±25 | 500±25 | 500±25 |
| 3.3 | ノッチの向き | ° | [1-100]±5 | [1-100]±5 | [1-100]±5 |
| 3.4 | ノッチの深さ | mm | 1～1.5 | 1～1.5 | 1～1.5 |
| 3.5 | LTV | μm | ≤5(10mm*10mm) | ≤5(10mm*10mm) | ≤10(10mm*10mm) |
| 3.6 | TTV | μm | ≤10 | ≤10 | ≤15 |
| 3.7 | 弓 | μm | -25～25 | -45～45 | -65～65 |
| 3.8 | ワープ | μm | ≤30 | ≤50 | ≤70 |
| 3.9 | AFM | nm | Ra≦0.2 | Ra≦0.2 | Ra≦0.2 |
| 4. 構造 | |||||
| 4.1 | マイクロパイプ密度 | EA/cm2 | ≤2 | ≤10 | ≤50 |
| 4.2 | 金属含有量 | 原子/cm2 | ≤1E11 | ≤1E11 | NA |
| 4.3 | TSD | EA/cm2 | ≤500 | ≤1000 | NA |
| 4.4 | 境界性パーソナリティ障害 | EA/cm2 | ≤2000 | ≤5000 | NA |
| 4.5 | テッド | EA/cm2 | ≤7000 | ≤10000 | NA |
| 5. ポジティブな品質 | |||||
| 5.1 | フロント | -- | Si | Si | Si |
| 5.2 | 表面仕上げ | -- | Si面CMP | Si面CMP | Si面CMP |
| 5.3 | 粒子 | EA/ウェーハ | ≤100(サイズ≧0.3μm) | NA | NA |
| 5.4 | 傷 | EA/ウェーハ | ≤5、全長≤200mm | NA | NA |
| 5.5 | 角 欠け/へこみ/ひび割れ/汚れ/汚れ | -- | なし | なし | NA |
| 5.6 | ポリタイプ領域 | -- | なし | 面積 ≤10% | 面積 ≤30% |
| 5.7 | フロントマーキング | -- | なし | なし | なし |
| 6. バック品質 | |||||
| 6.1 | バックフィニッシュ | -- | C面MP | C面MP | C面MP |
| 6.2 | 傷 | mm | NA | NA | NA |
| 6.3 | 裏面欠陥エッジ 欠け/へこみ | -- | なし | なし | NA |
| 6.4 | 裏面粗さ | nm | Ra≦5 | Ra≦5 | Ra≦5 |
| 6.5 | バックマーキング | -- | ノッチ | ノッチ | ノッチ |
| 7. エッジ | |||||
| 7.1 | 角 | -- | 面取り | 面取り | 面取り |
| 8. パッケージ | |||||
| 8.1 | 梱包 | -- | 真空でエピ対応可能 梱包 | 真空でエピ対応可能 梱包 | 真空でエピ対応可能 梱包 |
| 8.2 | 梱包 | -- | マルチウェーハ カセットパッケージ | マルチウェーハ カセットパッケージ | マルチウェーハ カセットパッケージ |
投稿時刻: 2023 年 4 月 18 日