8 インチ SiC 炭化ケイ素ウェハ 4H-N タイプ 0.5mm 生産グレード研究グレードカスタム研磨基板

簡単な説明:

炭化ケイ素 (SiC) は炭化ケイ素としても知られ、化学式 SiC で表されるシリコンと炭素を含む半導体です。 SiC は、高温または高圧、あるいはその両方で動作する半導体電子デバイスに使用されます。 SiC は重要な LED コンポーネントの 1 つでもあり、GaN デバイスを成長させるための一般的な基板であり、高出力 LED のヒートシンクとしても使用できます。
8 インチ炭化ケイ素基板は、第 3 世代の半導体材料の重要な部分であり、高い破壊電界強度、高い熱伝導率、高い電子飽和ドリフト率などの特性を備えており、高温での製造に適しています。高電圧、高出力の電子機器。その主な応用分野には、電気自動車、鉄道輸送、高電圧送電および変電、太陽光発電、5G通信、エネルギー貯蔵、航空宇宙、AIコアコンピューティングパワーデータセンターなどがあります。


製品詳細

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8インチ炭化珪素基板 4H-Nタイプの主な特長は以下のとおりです。

1. 微小管密度: ≤ 0.1/cm2 以下。たとえば、一部の製品では微小管密度が 0.05/cm2 未満に大幅に減少します。
2.結晶形率:4H-SiC結晶形率100%に達します。
3. 抵抗率:0.014〜0.028Ω・cm、または0.015〜0.025Ω・cmの間でより安定します。
4. 表面粗さ: CMP Si 面 Ra≤0.12nm。
5. 厚さ:通常500.0±25μmまたは350.0±25μm。
6. 面取り角度:厚さに応じて、A1/A2の場合は25±5°または30±5°。
7. 総転位密度: ≤3000/cm2。
8. 表面金属汚染: ≤1E+11 原子/cm2。
9. 曲がりと反り: それぞれ ≤ 20μm と ≤ 2μm。
これらの特性により、8 インチ炭化ケイ素基板は、高温、高周​​波、高出力の電子デバイスの製造において重要な応用価値を持っています。

8インチ炭化ケイ素ウェーハにはいくつかの用途があります。

1. パワーデバイス: SiC ウェーハは、パワー MOSFET (金属酸化膜半導体電界効果トランジスタ)、ショットキー ダイオード、パワー統合モジュールなどのパワー エレクトロニクス デバイスの製造に広く使用されています。 SiC の高い熱伝導率、高い降伏電圧、高い電子移動度により、これらのデバイスは高温、高電圧、高周波環境において効率的で高性能の電力変換を実現できます。

2. オプトエレクトロニクス デバイス: SiC ウェハは、光検出器、レーザー ダイオード、紫外線源などの製造に使用されるオプトエレクトロニクス デバイスで重要な役割を果たします。炭化ケイ素の優れた光学的および電子的特性により、特に高温を必要とするアプリケーションで選択される材料となっています。高周波、高出力レベル。

3. 無線周波数 (RF) デバイス: SiC チップは、RF パワーアンプ、高周波スイッチ、RF センサーなどの RF デバイスの製造にも使用されます。 SiC の高い熱安定性、高周波特性、低損失は、無線通信やレーダー システムなどの RF アプリケーションに最適です。

4.高温エレクトロニクス:SiCウェハは、その高い熱安定性と温度弾性により、高温パワーエレクトロニクス、センサー、コントローラーなど、高温環境で動作するように設計されたエレクトロニクス製品の製造に使用されます。

8 インチ炭化ケイ素基板 4H-N タイプの主な用途には、特に自動車エレクトロニクス、太陽エネルギー、風力発電、電気の分野における高温、高周​​波、高出力の電子デバイスの製造が含まれます。機関車、サーバー、家電製品、電気自動車。さらに、SiC MOSFET やショットキー ダイオードなどのデバイスは、スイッチング周波数、短絡実験、インバータ アプリケーションで優れた性能を実証し、パワー エレクトロニクスでの使用を推進しています。

XKHは、顧客の要件に応じてさまざまな厚さにカスタマイズできます。各種表面粗さ、研磨処理を取り揃えております。さまざまな種類のドーピング (窒素ドーピングなど) がサポートされています。 XKHは、お客様が使用中に発生した問題を確実に解決できるよう、技術サポートとコンサルティングサービスを提供します。 8インチ炭化珪素基板はコスト削減と大容量化に大きなメリットがあり、6インチ基板に比べてチップ単価を約50%削減できます。さらに、8 インチ基板の厚さが増加したことにより、加工中の幾何学的偏差やエッジの反りが減少し、歩留まりが向上しました。

詳細図

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