直径150mm 4H-N 6インチSiC基板生産およびダミーグレード

簡単な説明:

炭化ケイ素(SiC)は、周期表のIV族-IV族の二元化合物であり、IV族で唯一の安定した固体化合物であり、重要な半導体材料です。優れた熱的、機械的、化学的、電気的特性を有し、高温、高周​​波、高出力電子デバイスの製造に用いられる高品質材料の一つであるだけでなく、GaN系青色発光ダイオードの基板材料としても用いられています。現在、基板に使用されている炭化ケイ素は4H系で、導電型は半絶縁型(非ドープ、ドープ)とN型に分けられます。


製品詳細

製品タグ

6 インチ シリコン カーバイド MOSFET ウェハーの主な特徴は次のとおりです。

高耐電圧: シリコンカーバイドは破壊電界が高いため、6 インチ シリコンカーバイド MOSFET ウェーハは高耐電圧能力を備えており、高電圧アプリケーション シナリオに適しています。

高電流密度: シリコンカーバイドは電子移動度が大きいため、6 インチのシリコンカーバイド MOSFET ウェーハは電流密度が高く、より大きな電流に耐えることができます。

高い動作周波数: シリコンカーバイドはキャリア移動度が低いため、6 インチのシリコンカーバイド MOSFET ウェーハは高い動作周波数を持ち、高周波アプリケーション シナリオに適しています。

優れた熱安定性: シリコンカーバイドは熱伝導率が高いため、6 インチのシリコンカーバイド MOSFET ウェーハは高温環境でも優れた性能を発揮します。

6インチシリコンカーバイドMOSFETウェーハは、変圧器、整流器、インバータ、電力増幅器などを含むパワーエレクトロニクス、太陽光インバータ、新エネルギー車両の充電、鉄道輸送、燃料電池の高速空気圧縮機、DC-DCコンバータ(DCDC)、電気自動車のモーター駆動、データセンターなどの分野でのデジタル化の傾向など、幅広い用途で使用されています。

4H-N 6インチSiC基板をはじめ、各種グレードの基板ストックウェハをご提供いたします。また、お客様のニーズに合わせたカスタマイズも承っております。お気軽にお問い合わせください。

詳細図

ASD (1)
ASD (2)
ASD (3)

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