N型SiC on Si複合基板 直径6インチ
等级学年 | うー级 | P级 | D级 |
低BPDグレード | プロダクショングレード | ダミーグレード | |
直径直径 | 150.0mm±0.25mm | ||
厚さ厚さ | 500μm±25μm | ||
結晶片方向ウェーハの向き | 軸外 : < 11-20 > 方向に 4.0° > 4H-N の場合 ±0.5° 軸上 : 4H-SI の場合 <0001> ±0.5° | ||
主定位边方向プライマリーフラット | {10-10}±5.0° | ||
主定位边長度一次平坦長さ | 47.5mm±2.5mm | ||
边缘エッジの除外 | 3mm | ||
总厚さ变化/弯曲度/翘曲度 TTV/弓 /反り | ≤15μm /≤40μm /≤60μm | ||
微小管密度と基底面位置MPD&BPD | MPD≤1cm-2 | MPD≤5cm-2 | MPD≤15cm-2 |
BPD≤1000cm-2 | |||
電気抵抗率抵抗率 | ≧1E5Ω・cm | ||
表面粗さ粗さ | ポリッシュ Ra≤1 nm | ||
CMP Ra≦0.5nm | |||
裂纹(强光灯观测) # | なし | 累積長さ≤10mm、単一の長さ≤2mm | |
高強度光によるクラック | |||
六方空洞(强光灯观测)* | 累積面積 ≤1% | 累積面積 ≤5% | |
高輝度光による六角プレート | |||
多型(强光灯观测)* | なし | 累積面積≤5% | |
高強度光によるポリタイプ領域 | |||
划痕(强光灯观测)*& | ウェーハ直径の 1 倍に 3 つのスクラッチ | ウェーハ直径の 1 倍に 5 つのスクラッチ | |
高強度の光による傷 | 累積長さ | 累積長さ | |
崩边# エッジチップ | なし | 5 個許容、それぞれ ≤1 mm | |
表面污染物(强光灯观测) | なし | ||
高強度の光による汚染 |
詳細図
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