p型 4H/6H-P 3C-N TYPE SIC基板 4インチ〈111〉±0.5°ゼロMPD
4H/6H-PタイプSiC複合基板 共通パラメータ表
4 直径インチのシリコン超硬(SiC)基板 仕様
学年 | MPD 生産ゼロ グレード (Z 学年) | 標準生産 グレード (P 学年) | ダミーグレード (D 学年) | ||
直径 | 99.5mm~100.0mm | ||||
厚さ | 350μm±25μm | ||||
ウェーハの向き | 軸外: [11 方向に 2.0°-4.0°20] ±0.5°(4H/6H-)P, On軸:〈111〉±0.5°(3C-Nの場合) | ||||
マイクロパイプ密度 | 0cm-2 | ||||
抵抗率 | p型 4H/6H-P | ≤0.1Ωꞏcm | ≤0.3Ωꞏcm | ||
n型3C-N | ≤0.8mΩꞏcm | ≤1mΩꞏcm | |||
プライマリフラット方向 | 4H/6H-P | - {1010} ±5.0° | |||
3C-N | - {110}±5.0° | ||||
一次平坦長さ | 32.5mm±2.0mm | ||||
二次平坦長さ | 18.0mm±2.0mm | ||||
二次平面方向 | シリコン面を上に: 90° CW。プライムフラットから±5.0° | ||||
エッジの除外 | 3mm | 6mm | |||
LTV/TTV/バウ/ワープ | ≤2.5 μm/≦5 μm/≦15 μm/≦30 μm | ≤10 μm/≦15 μm/≦25 μm/≦40 μm | |||
粗さ | ポリッシュ Ra≤1 nm | ||||
CMP Ra≦0.2nm | Ra≦0.5nm | ||||
高輝度光によるエッジクラック | なし | 累積長さ ≤ 10 mm、単一の長さ ≤ 2 mm | |||
高輝度光による六角プレート | 累積面積 ≤0.05% | 累積面積 ≤0.1% | |||
高強度の光によるポリタイプ領域 | なし | 累積面積≤3% | |||
視覚的なカーボンインクルージョン | 累積面積 ≤0.05% | 累積面積 ≤3% | |||
高強度の光によるシリコン表面の傷 | なし | 累積長さ≦1×ウェーハ直径 | |||
強度の光によるエッジチップの増加 | なし 幅および深さ 0.2mm 以上は許可されない | 5 個許容、それぞれ ≤1 mm | |||
高強度によるシリコン表面の汚染 | なし | ||||
包装 | マルチウェーハカセットまたはシングルウェーハコンテナ |
注:
※欠陥制限はエッジ除外領域を除くウェーハ表面全体に適用されます。 # 傷は Si 面のみで確認してください。
〈111〉± 0.5°配向およびゼロ MPD グレードの P タイプ 4H/6H-P 3C-N タイプ 4 インチ SiC 基板は、高性能電子アプリケーションで広く使用されています。優れた熱伝導性と高い降伏電圧により、極限条件で動作する高電圧スイッチ、インバーター、パワーコンバーターなどのパワーエレクトロニクスに最適です。さらに、基材の高温および腐食に対する耐性により、過酷な環境でも安定した性能が保証されます。正確な〈111〉± 0.5° の方向により製造精度が向上し、RF デバイスや、レーダー システムや無線通信機器などの高周波アプリケーションに適しています。
N 型 SiC 複合基板には次のような利点があります。
1. 高い熱伝導率: 効率的な放熱により、高温環境や高出力用途に適しています。
2. 高降伏電圧: パワーコンバータやインバータなどの高電圧アプリケーションで信頼性の高い性能を保証します。
3. ゼロ MPD (Micro Pipe Defect) グレード: 最小限の欠陥を保証し、重要な電子機器に安定性と高い信頼性を提供します。
4. 耐食性: 過酷な環境でも耐久性があり、厳しい条件下でも長期的な機能を保証します。
5. 正確な <111>± 0.5° 方向: 製造時に正確な位置合わせが可能になり、高周波および RF アプリケーションでのデバイスの性能が向上します。
全体として、〈111〉± 0.5°配向およびゼロ MPD グレードの P タイプ 4H/6H-P 3C-N タイプ 4 インチ SiC 基板は、高度な電子アプリケーションに最適な高性能材料です。優れた熱伝導率と高い耐電圧により、高電圧スイッチ、インバーター、コンバーターなどのパワーエレクトロニクスに最適です。 Zero MPD グレードは欠陥を最小限に抑え、重要なデバイスに信頼性と安定性を提供します。さらに、基材の耐腐食性と高温耐性により、過酷な環境での耐久性が保証されます。正確な <111>± 0.5° の配向により、製造時に正確な位置合わせが可能となり、RF デバイスや高周波アプリケーションに非常に適しています。