炭化シリコンセラミックトレイ吸盤シリコン炭化物セラミックチューブ供給高温焼結カスタム処理
主な機能：
1。炭化シリコンセラミックトレイ
- 硬度と耐摩耗性：硬度はダイヤモンドに近く、ウェーハ処理で長い間機械的摩耗に耐えることができます。
- 熱伝導率と低熱膨張係数：熱応力による変形を回避する高速熱散逸と寸法安定性。
- 平坦度と表面仕上げ：表面の平坦性はミクロンレベルまであり、ウェーハとディスクの間の完全な接触を確保し、汚染と損傷を減らします。
化学物質の安定性：半導体製造におけるウェットクリーニングおよびエッチングプロセスに適した強力な耐食性。
2。炭化シリコンセラミックチューブ
- 高温抵抗：半導体高温プロセスに適した1600°Cを超える高温環境で長い間機能します。
優れた腐食耐性：酸、アルカリ、および過酷なプロセス環境に適したさまざまな化学溶媒に耐性があります。
- 高硬度と耐摩耗性：粒子侵食と機械的摩耗に抵抗し、サービスの寿命を延ばします。
- 熱伝導率と熱膨張係数が低い：熱と寸法の安定性の高速伝導、熱応力による変形の減少または亀裂。
製品パラメーター：
炭化シリコンセラミックトレイパラメーター：
| （物質的な財産） | （ユニット） | （SSIC） | |
| （sicコンテンツ） | （wt）％ | > 99 | |
| （平均穀物サイズ） | ミクロン | 4-10 | |
| （密度） | kg/dm3 | > 3.14 | |
| （見かけの多孔性） | VO1％ | <0.5 | |
| （ビッカーズの硬度） | HV 0.5 | GPA | 28 |
| *（） 曲げ強度*（3ポイント） | 20ºC | MPA | 450 |
| （圧縮強度） | 20ºC | MPA | 3900 |
| （弾性率） | 20ºC | GPA | 420 |
| （骨折の靭性） | MPA/M '％ | 3.5 | |
| （熱伝導率） | 20°ºC | w/（m*k） | 160 |
| （抵抗率） | 20°ºC | ohm.cm | 106-108 |
（熱膨張係数） | a（rt ** ...80ºC） | K-1*10-6 | 4.3 |
（最大動作温度） | oºc | 1700 | |
炭化シリコンセラミックチューブパラメーター：
| アイテム | 索引 |
| α-SIC | 99％min |
| 見かけの多孔性 | 最大16％ |
| バルク密度 | 2.7g/cm3分 |
| 高温での曲げ強度 | 100 mpa分 |
| 熱膨張係数 | K -1 4.7x10 -6 |
| 熱伝導率係数（1400ºC） | 24 w/mk |
| マックス。作業温度 | 1650ºC |
主なアプリケーション：
1。炭化シリコンセラミックプレート
- ウェーハの切断と研磨：切断および研磨中に高い精度と安定性を確保するためのベアリングプラットフォームとして機能します。
- リソグラフィプロセス：曝露中に高精度の位置を確保するために、ウェーハはリソグラフィマシンに固定されています。
- 化学機械的研磨（CMP）：パッドを研磨するためのサポートプラットフォームとして機能し、均一な圧力と熱分布を提供します。
2。炭化シリコンセラミックチューブ
- 高温炉チューブ：拡散炉や酸化炉などの高温機器に使用して、高温プロセス処理のためにウェーハを運ぶ。
-CVD/PVDプロセス：高温および腐食性ガスに耐性のある反応チャンバー内のベアリングチューブとして。
- 半導体機器アクセサリ：熱交換器、ガスパイプラインなど、機器の熱管理効率を改善します。
XKHは、炭化シリコンセラミックトレイ、吸引カップ、シリコン炭化物セラミックチューブ向けのさまざまなカスタムサービスを提供しています。炭化シリコンセラミックトレイと吸引カップであるXKHは、さまざまなサイズ、形状、表面粗さの顧客要件に従ってカスタマイズでき、特別なコーティング処理をサポートし、耐摩耗性と耐食性を高めます。炭化シリコンセラミックチューブの場合、XKHは、さまざまな内径、外径、長さ、複雑な構造（形状チューブや多孔質チューブなど）をカスタマイズし、研磨、酸化抗酸化コーティング、その他の表面処理プロセスを提供できます。 XKHは、顧客がシリコンカーバイドセラミック製品のパフォーマンスの利点を最大限に活用して、半導体、LED、太陽光発電などのハイエンド製造分野の厳しい要件を満たすことができるようにします。
詳細な図
