ソーダ石灰ガラス基板 – 精密研磨され、産業用コスト効率に優れています
詳細図
主な機能と利点
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高い光学的透明度:可視スペクトル (400~800 nm) における優れた透過率。光学検査や画像化に適しています。
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滑らかな研磨面:両面を細かく研磨して表面粗さを低く(<2 nm)し、コーティングの優れた密着性を確保します。
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寸法安定性:一貫した平坦性と平行性を維持し、精密な位置合わせと計測セットアップと互換性があります。
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コスト効率の高い素材:標準温度用途において、ホウケイ酸基板または溶融シリカ基板の低コストな代替品を提供します。
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加工性:カスタム光学設計や電子設計に合わせて、簡単に切断、穴あけ、成形できます。
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化学的適合性:フォトレジスト、接着剤、およびほとんどの薄膜堆積材料 (ITO、SiO₂、Al、Au) と互換性があります。
透明性、強度、手頃な価格を兼ね備えたソーダ石灰ガラス研究室、光学工房、薄膜コーティング施設で最も一般的に使用されている基板材料の 1 つです。
製造と表面品質
それぞれソーダ石灰基質高品質のフロートガラスを使用し、精密なスライス、ラッピング、両面研磨を施して光学的に平坦な表面を実現して製造されています。
一般的な製造手順は次のとおりです。
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フロートプロセス:溶融スズフロート技術により、超平坦で均一なガラスシートを生産します。
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切断と成形:円形または長方形の基板形式にレーザーまたはダイヤモンド切断します。
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細かい研磨:片面または両面で高い平坦性と光学グレードの滑らかさを実現します。
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清掃と梱包:脱イオン水中の超音波洗浄、粒子のない検査、クリーンルームでの梱包。
これらのプロセスにより、光学コーティングや微細加工作業に適した優れた一貫性と表面仕上げが保証されます。
アプリケーション
ソーダ石灰基質科学、光学、半導体の幅広い用途に使用されています。
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光学窓とミラー:光学コーティングおよびフィルター製造用のベースプレート。
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薄膜堆積:ITO、SiO₂、TiO₂、金属フィルムに最適なキャリア基板です。
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ディスプレイ技術:バックプレーンガラス、ディスプレイ保護、キャリブレーションサンプルに使用されます。
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半導体研究:フォトリソグラフィープロセスにおける低コストキャリアまたはテストウェーハ。
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レーザーおよびセンサープラットフォーム:光学アライメントおよびプローブテスト用の透明なサポート材料。
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教育および実験用途:研究室ではコーティング、エッチング、接合実験によく使用されます。
標準仕様
| パラメータ | 仕様 |
|---|---|
| 材料 | ソーダ石灰ケイ酸塩ガラス |
| 直径 | 2インチ、3インチ、4インチ、6インチ、8インチ(カスタマイズ可能) |
| 厚さ | 0.3~1.1 mm標準 |
| 表面仕上げ | 両面研磨または片面研磨 |
| 平坦性 | ≤15 µm |
| 表面粗さ(Ra) | 2 nm未満 |
| 伝染 ; 感染 | ≥90%(可視範囲:400~800 nm) |
| 密度 | 2.5 g/cm³ |
| 熱膨張係数 | 約9 × 10⁻⁶ /K |
| 硬度 | モース硬度約6 |
| 屈折率(nD) | 約1.52 |
よくある質問
Q1: ソーダ石灰基質は一般的にどのような用途に使用されますか?
A: 透明性と平坦性を活かし、薄膜コーティング、光学実験、フォトリソグラフィー試験、光学窓製造などの基材として利用されています。
Q2: ソーダ石灰基質は高温に耐えられますか?
A: 約300℃まで動作可能です。より高い耐熱性が必要な場合は、ホウケイ酸ガラスまたは溶融シリカ基板の使用をお勧めします。
Q3: 基板はコーティング堆積に適していますか?
A: はい、滑らかできれいな表面は、物理蒸着 (PVD)、化学蒸着 (CVD)、スパッタリング プロセスに最適です。
Q4: カスタマイズは可能ですか?
A: もちろんです。特定の用途要件に応じて、サイズ、形状、厚さ、エッジ仕上げをカスタマイズできます。
Q5: ホウケイ酸基板と比べるとどうですか?
A: ソーダ石灰ガラスはより経済的で加工も簡単ですが、ホウケイ酸ガラスに比べると耐熱性と耐薬品性が若干劣ります。
私たちについて
XKHは、特殊光学ガラスおよび新結晶材料のハイテク開発、生産、販売を専門とする企業です。製品は、光エレクトロニクス、コンシューマーエレクトロニクス、軍事分野など多岐にわたります。サファイア光学部品、携帯電話レンズカバー、セラミックス、LT、シリコンカーバイド(SiC)、石英、半導体結晶ウェハなどを提供しています。熟練した専門知識と最先端の設備を駆使し、非標準製品の加工にも強みを発揮し、光電子材料のハイテク企業として世界をリードすることを目指しています。










