6 インチ 150mm 炭化ケイ素 SiC ウェハ 4H-N タイプ MOS または SBD 製造研究およびダミーグレード用
応用分野
6 インチ炭化ケイ素単結晶基板は、さまざまな産業で重要な役割を果たしています。まず、パワー トランジスタ、集積回路、パワー モジュールなどの高出力電子デバイスの製造に半導体業界で広く使用されています。高い熱伝導率と高温耐性により放熱が向上し、効率と信頼性が向上します。第二に、炭化ケイ素ウェーハは、新しい材料やデバイスの開発のための研究分野において不可欠です。さらに、炭化ケイ素ウェーハは、LED やレーザー ダイオードの製造を含むオプトエレクトロニクスの分野で広範囲に応用されています。
製品仕様
６インチ炭化珪素単結晶基板の直径は６インチ（約１５２．４ｍｍ）である。表面粗さはRa<0.5nm、厚さは600±25μmです。基板は、顧客の要件に基づいて、N 型または P 型のいずれかの導電性でカスタマイズできます。さらに、圧力や振動に耐えることができる優れた機械的安定性を示します。
| 直径 | 150±2.0mm（6インチ） | ||||
| 厚さ | 350μm±25μm | ||||
| オリエンテーション | 軸上 ： <0001>±0.5° | 軸外：1120方向に4.0°±0.5° | |||
| ポリタイプ | 4H | ||||
| 抵抗率(Ω・cm) | 4H-N | 0.015～0.028Ω・cm/0.015～0.025Ω・cm | |||
| 4/6H-SI | >1E5 | ||||
| プライマリフラット方向 | {10-10}±5.0° | ||||
| 一次側平坦長さ(mm) | 47.5mm±2.5mm | ||||
| 角 | 面取り | ||||
| TTV/バウ/ワープ (um) | ≤15 /≤40 /≤60 | ||||
| AFMフロント（Si面） | ポリッシュ Ra≤1 nm | ||||
| CMP Ra≦0.5nm | |||||
| LTV | ≤3μm(10mm*10mm) | ≤5μm(10mm*10mm) | ≤10μm(10mm*10mm) | ||
| TTV | ≤5μm | ≤10μm | ≤15μm | ||
| オレンジの皮/穴/ひび割れ/汚染/汚れ/縞模様 | なし | なし | なし | ||
| インデント | なし | なし | なし | ||
6 インチ炭化ケイ素単結晶基板は、半導体、研究、およびオプトエレクトロニクス産業で広く使用されている高性能材料です。優れた熱伝導率、機械的安定性、高温耐性を備えているため、高出力電子デバイスの製造や新材料の研究に適しています。お客様の多様なご要望にお応えするため、様々な仕様やカスタマイズオプションをご用意しております。炭化ケイ素ウェーハの詳細については、お問い合わせください。
詳細図
