4H-N/6H-N SiCウェハー研究生産用ダミーグレード直径150mmシリコンカーバイド基板

簡単な説明:

当社は、高温超伝導薄膜基板、磁性薄膜基板、強誘電体薄膜基板、半導体結晶、光学結晶、レーザー結晶材料などの各種材料をご提供するとともに、結晶配向、結晶切断、研削、研磨などの加工サービスも提供しています。当社のSiC基板は、中国のTankeblue工場から供給されています。


製品詳細

製品タグ

直径6インチのシリコンカーバイド(SiC)基板仕様

学年

ゼロMPD

生産

研究グレード

ダミーグレード

直径

150.0mm±0.25mm

厚さ

4H-N

350μm±25μm

4H-SI

500μm±25μm

ウェーハの向き

軸上:<0001>4H-SIの場合±0.5°
オフアクシス:4H-Nの場合、<1120>方向に4.0°±0.5°

プライマリーフラット

{10-10}±5.0°

プライマリフラット長さ

47.5mm±2.5mm

エッジ除外

3mm

TTV/ボウ/ワープ

≤15um/≤40um/≤60um

マイクロパイプ密度

≤1cm-2

≤5cm-2

≤15cm-2

≤50cm-2

抵抗率 4H-N 4H-SI

0.015~0.028Ω!cm

≥1E5Ω!cm

粗さ

研磨Ra≤1nm、CMPRa≤0.5nm

#高強度光によるひび割れ

なし

1個まで許容、≤2mm

累計長さ≤10mm、単長≤2mm

*高輝度ライトによる六角プレート

累積面積≤1%

累積面積≤2%

累積面積≤5%

*高強度光によるポリタイプ領域

なし

累積面積≤2%

累積面積≤5%

*高輝度光による傷

3つの傷から1 x ウェーハ直径の累積長さ

5つの傷から1 x ウェーハ直径の累積長さ

5つの傷から1 x ウェーハ直径の累積長さ

エッジチップ

なし

3個まで可能、各0.5mm以下

5個まで可能、各1mm以下

高強度光による汚染

なし

営業およびカスタマーサービス

資材調達

資材購買部門は、お客様の製品の製造に必要なすべての原材料の調達を担当しています。すべての製品と材料の完全なトレーサビリティ(化学分析および物理分析を含む)は常に利用可能です。

品質

製品の製造または加工中および加工後に、品質管理部門はすべての材料と許容差が仕様を満たしているか、またはそれを上回っているかを確認します。

サービス

当社は、半導体業界で5年以上の経験を持つセールスエンジニアリングスタッフを擁していることを誇りに思っています。彼らは技術的なご質問にお答えするだけでなく、お客様のニーズに合わせたタイムリーなお見積りもご提供できるよう訓練されています。

問題が生じた際にはいつでも私たちが対応し、10 時間以内に解決します。

詳細図

シリコンカーバイド基板(1)
シリコンカーバイド基板(2)

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