8インチシリコンウェハP/N型（100）1-100Ωダミー再生基板

8インチシリコンウェーハは、一般的に使用されているシリコン基板材料であり、集積回路の製造プロセスで広く使用されています。このようなシリコンウェーハは、マイクロプロセッサ、メモリチップ、センサー、その他の電子デバイスなど、さまざまな種類の集積回路の製造に広く使用されています。8インチシリコンウェーハは、比較的大きなサイズのチップの製造によく使用され、表面積が大きいこと、1枚のシリコンウェーハ上により多くのチップを製造できることなどの利点があり、生産効率が向上します。また、8インチシリコンウェーハは優れた機械的特性と化学的特性を備えているため、大規模集積回路の製造に適しています。